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一：新式全程綜合水處理器運行詳述 概述

       全程綜合水處理器通過長期實踐證明，在現今的水系統中普遍存在有結垢、腐蝕、污泥、在微生物繁殖等四大主要危害。水系統尤其是循環水系統的水質問題往往是綜合性的。以往采用的水處理設備由于單臺設備功能的局限性無法解決，因此需要通過進一步的實用技術加以解決。我公司通過采用高頻技術與電能磁場效應的結合方式，針對電化學腐蝕、結垢、菌藻繁殖的不同問題，采用多重頻段及靜電高壓組合，設計制造了綜合水處理器。

二：新式全程綜合水處理器運行詳述原理

      綜合水處理器首先采用高頻技術，利用高頻電場力的作用使水活化，水中的Ca2+、Mg2+離子的運動速度降低，與水中的CO32-、SO42-等離子有效碰撞次數減少，靜電引力下降，所以受熱壁或管表而無法結垢，從而達到防垢的目的。高頻電磁場使力的滲透力與溶解度增大，并對金屬表面的水垢薄弱環節縱向滲透到金屬表面后，開始沿金屬與水垢表面橫向滲透，使水垢呈片狀脫離金屬表面，從而達到除垢的目的。微電環境可遏制微生物的生長，破壞其生存環境，另外設備工作過程中生成的活性氧自由基，具有損傷生物大分子，改變菌類、藻類生存的生物場等作用以達到殺菌、滅藻的目的。

三：新式全程綜合水處理器運行詳述參數

1消耗功率：＜120W～600W

2 工作環境要求：溫度-25℃～+50℃   相對溫度＜95%

3 工作溫度（被處理介質溫度）：-25℃～+50℃